可是由于别的原因，高温蒸着通常是不受欢迎的，而离子助镀已成为一个普遍采用的方法其在低温甚至在室温时就可以得到比较高的折射，通常需要提供足够的氧气以避免（因为有吸收则降低透过率），但是可能也需要降低吸收而增大镭射损坏临界值（LDT).TiO2的折射率与真空度和蒸发速度有很大的关系，但是经过充分预熔和IAD助镀可以解决这一难题，所以在可见光和近红外线光谱中，TiO2很受到人们的欢迎. 在IAD助镀TiO2时，使用屏蔽栅式离子源蒸发则需要200EV，而用无屏蔽栅式离子源蒸发时则需要333EV或者更少一些，在那里平均能量估计大约是驱动电压的60%，如果离子能量超过以上数值，TiO2将有吸收.而SiO2有电子枪蒸发可以提供600EV碰撞（离子辐射）能量而没有什么不良效应. 次数用完API KEY 超过次数限制

将金属薄层沉积到衬底或之前获得的薄层的技术称为表面沉积。这里的“薄”是一个相对的概念，但大多数的沉积技术都可以将薄层厚度控制在几个到几十纳米尺度的范围内，分子束外延技术可以得到单一原子层的结构。

沉积技术在光学仪器（消反射膜，减反射膜，自清洁表面等）、电子技术（薄膜电阻，半导体，集成电路）、包装和现代艺术都有应用。在对薄膜厚度要求不高时，类似于沉积的技术常常被使用。例如：用电解法提纯铜，硅沉积，铀的提纯中都用到了类似于化学气象沉积的过程。 次数用完API KEY 超过次数限制

薄膜破损要修补薄膜在使用和保存过程中容易破损，使用中破损可采用临时修补方法。方法有二：一是水补法，把破损处擦洗干净，剪一块比破损地方稍大的无破洞的薄膜，蘸上水贴在破洞上，排净两膜间的空气，按平即可；二是纸补法，农膜轻度破损用纸蘸水后趁湿贴在破损处，一般可使用10天左右。拆棚后的破损薄膜要采用修补法。质地较厚的薄膜发生破损，可用质地相同的薄膜盖在上面，用细线密缝连接。也可把破损处洗净，用一块稍大的薄膜盖住破洞，再蒙上2-3层报纸，用电熨斗沿接口处轻轻熨烫，两膜受热粘贴，冷却后便会粘在一起，此法称为热补法。 次数用完API KEY 超过次数限制